Čo znamenajú TTV, BOW, WARP a TIR v oblátkach?

Pri skúmaní polovodičových kremíkových doštičiek alebo substrátov vyrobených z iných materiálov sa často stretávame s technickými indikátormi, ako sú: TTV, BOW, WARP a prípadne TIR, STIR, LTV, okrem iných. Aké parametre tieto ukazovatele predstavujú?

 

TTV — Celková variácia hrúbky
BOW — Luk
WARP — Osnova
TIR — Celkový indikovaný údaj
STIR — Celkový indikovaný údaj na mieste
LTV — Lokálna variácia hrúbky

 

1. Celková zmena hrúbky – TTV

da81be48e8b2863e21d68a6b25f09db7Rozdiel medzi maximálnou a minimálnou hrúbkou doštičky vzhľadom na referenčnú rovinu, keď je doštička upnutá a v tesnom kontakte. Vo všeobecnosti sa vyjadruje v mikrometroch (μm), často ako: ≤15 μm.

 

2. Uklon – UKLON

081e298fdd6abf4be6f882cfbb704f12

Odchýlka medzi minimálnou a maximálnou vzdialenosťou od stredového bodu povrchu doštičky k referenčnej rovine, keď je doštička vo voľnom (neupnutom) stave. Zahŕňa to konkávny (negatívne prehnutie) aj konvexný (pozitívne prehnutie) prípad. Typicky sa vyjadruje v mikrometroch (μm), často ako: ≤40 μm.

 

3. Osnova — WARP

e3c709bbb4ed2b11345e6a942df24fa4

Odchýlka medzi minimálnou a maximálnou vzdialenosťou od povrchu doštičky k referenčnej rovine (zvyčajne zadnej ploche doštičky), keď je doštička vo voľnom (neupnutom) stave. Zahŕňa to konkávny (negatívna deformácia) aj konvexný (pozitívna deformácia) stav. Vo všeobecnosti sa vyjadruje v mikrometroch (μm), často ako: ≤30 μm.

 

4. Celkový indikovaný údaj – TIR

8923bc5c7306657c1df01ff3ccffe6b4

 

Keď je doštička upnutá a v tesnom kontakte, pomocou referenčnej roviny, ktorá minimalizuje súčet priesečníkov všetkých bodov v oblasti kvality alebo v určenej lokálnej oblasti na povrchu doštičky, je TIR odchýlka medzi maximálnou a minimálnou vzdialenosťou od povrchu doštičky k tejto referenčnej rovine.

 

Spoločnosť XKH, založená na hlbokých odborných znalostiach v oblasti špecifikácií polovodičových materiálov, ako sú TTV, BOW, WARP a TIR, poskytuje presné služby spracovania doštičiek na mieru prispôsobené prísnym priemyselným štandardom. Dodávame a podporujeme širokú škálu vysokovýkonných materiálov vrátane zafíru, karbidu kremíka (SiC), kremíkových doštičiek, SOI a kremeňa, čím zabezpečujeme výnimočnú rovinnosť, konzistentnosť hrúbky a kvalitu povrchu pre pokročilé aplikácie v optoelektronike, výkonových zariadeniach a MEMS. Dôverujte nám, že dodáme spoľahlivé materiálové riešenia a presné obrábanie, ktoré spĺňajú vaše najnáročnejšie konštrukčné požiadavky.

 

https://www.xkh-semitech.com/single-crystal-silicon-wafer-si-substrate-type-np-optional-silicon-carbide-wafer-product/

 


Čas uverejnenia: 29. augusta 2025