4-palcové doštičky SiC 6H poloizolačné substráty SiC prvotriedne, výskumné a fiktívne

4-palcové doštičky SiC 6H poloizolačné substráty SiC prvotriedne, výskumné a figuríny Odporúčaný obrázok

Stručný opis:

Poloizolovaný substrát karbidu kremíka vzniká rezaním, brúsením, leštením, čistením a inou technológiou spracovania po raste poloizolovaného kryštálu karbidu kremíka.Vrstva alebo viacvrstvová kryštálová vrstva sa pestuje na substráte, ktorý spĺňa požiadavky na kvalitu ako epitaxia, a potom sa mikrovlnné RF zariadenie vyrobí kombináciou návrhu obvodu a balenia.Dostupné ako 2 palce 3 palce 4 palce 6 palcov 8 palcov priemyselné, výskumné a testovacie poloizolované monokryštálové substráty z karbidu kremíka.

Pošlite nám e-mail

Detail produktu

Štítky produktu

Špecifikácia produktu

stupňa			Nulový stupeň výroby MPD (trieda Z)			Štandardná výrobná trieda (P trieda)		Dummy Grade (D grade)
Priemer			99,5 mm~100,0 mm
	4H-SI		500 μm ± 20 μm			500 μm±25 μm
Orientácia oblátky			Mimo osi : 4,0° smerom k < 1120 > ±0,5° pre 4H-N, na osi : <0001>±0,5° pre 4H-SI
	4H-SI		≤ 1 cm^-2			≤ 5 cm^-2		≤ 15 cm^-2
	4H-SI		≥1E9 Ω·cm					≥1E5 Ω·cm
Primárna orientácia bytu		{10-10} ±5,0°
Primárna plochá dĺžka		32,5 mm±2,0 mm
Sekundárna plochá dĺžka		18,0 mm±2,0 mm
Vedľajšia orientácia bytu		Kremík lícom nahor: 90° CW.od základného náteru ±5,0°
Vylúčenie okrajov		3 mm
LTV/TTV/Bow/Warp		≤3 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm						≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm
Drsnosť			C tvár				poľský		Ra < 1 nm
			Si tvár	CMP	Ra < 0,2 nm					Ra < 0,5 nm
Okraje praskajú svetlom s vysokou intenzitou		žiadne						Kumulatívna dĺžka ≤ 10 mm, jeden dĺžka ≤ 2 mm
Šesťhranné platne s vysokou intenzitou svetla		Kumulatívna plocha ≤ 0,05 %						Kumulatívna plocha ≤ 0,1 %
Polytypové oblasti podľa vysokej intenzity svetla		žiadne						Kumulatívna plocha ≤ 3 %
Vizuálne uhlíkové inklúzie		Kumulatívna plocha ≤ 0,05 %						Kumulatívna plocha ≤ 3 %
Silikónový povrch poškriabe vysoko intenzívnym svetlom		žiadne						Kumulatívna dĺžka≤1＊priemer plátku
Okrajové triesky s vysokou intenzitou svetla		Nie je povolené ≥0,2 mm šírka a hĺbka						5 povolených, každý ≤ 1 mm
Silikónová povrchová kontaminácia vysokou intenzitou		žiadne
Balenie		Kazeta s viacerými oblátkami alebo nádoba na jednu oblátku