3-palcový 76,2 mm 4H-Semi SiC substrátová doštička Karbid kremíka Polonecitlivé SiC doštičky

3-palcový 76,2 mm 4H-Semi SiC doštička substrátu Karbid kremíka Polourážlivé SiC doštičky Odporúčaný obrázok

Stručný opis:

Vysoko kvalitný monokryštálový SiC doštička (karbid kremíka) pre elektronický a optoelektronický priemysel.3-palcová doska SiC je polovodičový materiál novej generácie, poloizolačné doštičky z karbidu kremíka s priemerom 3 palce.Doštičky sú určené na výrobu výkonových, RF a optoelektronických zariadení.

Pošlite nám e-mail

Detail produktu

Štítky produktu

Špecifikácia produktu

3-palcové 4H poloizolované doštičky SiC (karbid kremíka) substrátu sú bežne používaným polovodičovým materiálom.4H označuje tetrahexaedrickú kryštálovú štruktúru.Poloizolácia znamená, že substrát má vysokú odporovú charakteristiku a môže byť do určitej miery izolovaný od toku prúdu.

Takéto substrátové doštičky majú nasledujúce charakteristiky: vysokú tepelnú vodivosť, nízku vodivosť, vynikajúcu odolnosť voči vysokej teplote a vynikajúcu mechanickú a chemickú stabilitu.Pretože karbid kremíka má veľkú energetickú medzeru a dokáže odolávať vysokým teplotám a podmienkam vysokého elektrického poľa, poloizolované doštičky 4H-SiC sa široko používajú vo výkonovej elektronike a rádiofrekvenčných (RF) zariadeniach.

Medzi hlavné aplikácie 4H-SiC poloizolovaných doštičiek patria:

1--Výkonová elektronika: 4H-SiC doštičky možno použiť na výrobu zariadení na spínanie výkonu, ako sú MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), IGBT (Bipolárne tranzistory s izolovanou bránou) a Schottkyho diódy.Tieto zariadenia majú nižšie straty vo vedení a spínaní v prostredí vysokého napätia a vysokej teploty a ponúkajú vyššiu účinnosť a spoľahlivosť.

2-Rádiofrekvenčné (RF) zariadenia: 4H-SiC poloizolované doštičky možno použiť na výrobu vysokovýkonných, vysokofrekvenčných RF výkonových zosilňovačov, čipových rezistorov, filtrov a iných zariadení.Karbid kremíka má lepší vysokofrekvenčný výkon a tepelnú stabilitu vďaka väčšej rýchlosti driftu saturácie elektrónov a vyššej tepelnej vodivosti.

3--Optoelektronické zariadenia: 4H-SiC poloizolované doštičky možno použiť na výrobu vysokovýkonných laserových diód, detektorov UV svetla a optoelektronických integrovaných obvodov.

Pokiaľ ide o smerovanie trhu, dopyt po 4H-SiC poloizolovaných doštičkách rastie s rastúcimi oblasťami výkonovej elektroniky, RF a optoelektroniky.Dôvodom je skutočnosť, že karbid kremíka má širokú škálu aplikácií vrátane energetickej účinnosti, elektrických vozidiel, obnoviteľnej energie a komunikácií.V budúcnosti zostáva trh s poloizolovanými doskami 4H-SiC veľmi sľubný a očakáva sa, že v rôznych aplikáciách nahradí konvenčné kremíkové materiály.